BIBUS stabilisierte mit einer kompakt abgestimmten Systemlösung einen kritischen Prozess in der Nasschemie einer Wafer-Fertigung. Ziel war es, Druck- und Durchflussschwankungen in der Versorgung hochreiner Ätz- und Reinigungschemikalien zuverlässig zu eliminieren – für reproduzierbare Prozesse, längere Standzeiten und eine höhere Ausbeute. Der Kunde setzt die Lösung inzwischen in weiteren Anlagen ein.
Ein Hersteller von Nassprozessanlagen stand vor einem wachsenden Problem:
Kleinste Instabilitäten in der Chemikalienführung führten zu Partikelbildung, ungleichmäßigen Strukturen und Prozessabweichungen – mit direkten Auswirkungen auf die Yield.
Die Anlage zeigte typische Symptome instabiler Chemikalienführung:
Für aggressive Medien wie HF, HCI oder H₂O₂ reichten die bisherigen Komponenten nicht mehr aus.
Gemeinsam mit dem Kunden wurde die Chemikalienstrecke optimiert – durch den Einsatz hochreiner, chemikalienbeständiger Komponenten:
Alles ausgelegt für höchste Reinheit und schnelle, stabile Schaltzeiten.
Die Anpassung führte zu klar messbaren Verbesserungen:
Der Kunde setzt die Lösung inzwischen in weiteren Anlagen ein – ein kleiner technischer Eingriff, der große Wirkung erzielt.
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